名称：        超高真空三靶磁控溅射仪            型号：        

产地：        中国                                          生产厂家： 沈阳慧宇真空技术有限公司

购买日期： 2015.11.30                                联系人：    张铮  

联系邮箱： zhangzheng@ustb.edu.cn       联系电话： 010-62334725  

放置地点： 测试楼 115  

主要规格及技术指标

1. 极限真空度：3×10-5Pa.2. 真空室：内径400×350，样品架在真空室上盖上，尺寸直径20，电动、手动升降，转速10-60转/分可调；加热温度500 ℃,程序控温；靶尺寸：直径60，每靶均可手动 相对样品移动，移动距离40 mm。3. 电源：直流电源两台，功率：500 W；射频电源一台，功率500 W 4. 日本原装质量流量计，精确设定进气量。美国产水流开关控制溅射靶枪冷却水的流量，避免由于水量不足损坏溅射靶枪。

主要功能及特色

1. 可用于制备金属膜、介质膜以及实验室新材料研究领域。