仪器名称：高真空热蒸镀及电子束蒸镀系统  仪器型号：PRO Line PVD 200

产地：                       美国                          生产厂家：Kurt J.Lesker Company

购买日期：            2024/1/1                      分类标签：器件加工

联系人：                 于慧慧                          联系电话：010-62334725

放置地点：          鼎新楼A座521

主要规格及技术指标：

1. 镀膜工艺腔体：采用 304 不锈钢方箱型，内部名义尺寸约 488.95mm×520.7mm×914.4mm，加高至 36 英寸（适用于 lift-off 工艺）。

2. 真空系统：前级泵为 EDWARDS 干式涡旋泵（抽速≥6.7cfm，极限真空 5×10E-3torr）；主泵为 1500L/S 低温泵（可远程自动再生，降温≤3 小时）；系统极限压强优于 8×10E-8Torr。

3. 真空与膜厚测量：主真空室及进样室真空量程：大气至 10E-9Tor；膜厚控制系统集成于软件，可控制 5 个晶振传感器，沉积速度显示精度≤0.01 埃 / 秒。

4. 蒸发系统：电子束蒸发（5kW 功率，6 个 20cc 坩埚，距基片≥500mm）；热阻蒸发（4 个蒸发源，带水冷电极，距基片≥500mm）。

5. 样品与进样：样品台可放 6 英寸基片（带水冷），支持 0-20RPM 自转；进样室配 67L/S 分子泵，通过传递臂自动交接样品。

6. 控制与辅助：支持远程控制、工艺程序自动运行及数据曲线生成；6 英寸硅片镀膜均匀性优于 ±5%。

主要功能及特色：

1.镀制各种金属和非金属单层膜、多层膜

2.制备纳米器件、有机光电器件的金属电极

3.用于生长纳米材料的各类膜层。