仪器名称：接近式紫外曝光机     仪器型号：MA/BA6 Gen4

产地：                 德国               生产厂家：德国SUSS

购买日期：       2023/12/1         分类标签：器件加工

联系人：            于慧慧              联系电话：010-62334725

放置地点：     鼎新楼A座521

主要规格及技术指标：

1. 曝光系统：曝光波长 350-450nm，LED 灯（寿命＞5000 小时，光强可软件调节）；光强365nm≥55mw/cm、405nm≥140mw/cm，分辨率≤0.8mm，正面套刻精度≤±0.25mm；支持四种曝光模式，接近式距离 1-1000mm（调节精度 1mm）；具备微镜式系统（可切换高分辨率/大景深模式）及消衍射光学系统。

2. 显微对准与对准台：分离视场显微镜（5 倍、10 倍物镜）；对准台X/Y行程 ±5mm、θ±5°，移动分辨率 X-Y 0.02µm、θ 0.00001deg；支持手动/全自动对准。

3. 对准与曝光性能：光强均匀度≤±2.5％，曝光剂量稳定性 ±1%；全自动模式可自动识别标记并完成操作，手动模式灵活可控。

4. 夹具与附件：含4套晶圆夹具（2/4/6 英寸及小碎片）、3套掩模版夹具；配备防震台、吸片真空泵、紫外光强计及防护眼镜。

主要功能及特色：

主要用于光电子、微电子、MEMS微纳图形加工工艺中高精度的紫外曝光与套刻对准