仪器名称：规模化集成电路无掩膜激光直写系统  仪器型号：DMO MicroWriter

产地：                         英国                               生产厂家：Durham Magneto Optics Ltd.

购买日期：                2023.11                           分类标签：器件加工

联系人：                    于慧慧                             联系电话：010-62334725

放置地点：            鼎新楼A座521

主要规格及技术指标：

1.直写性能：无需物理掩膜板，支持 0.4μm、0.6μm 等 5 种分辨率模式（软件自动切换）；最快直写速度对应不同模式为 3-180mm²/min，对准及套刻精度 ±0.5μm，支持 256 级灰度直写，采用全加工区域聚焦光斑写场式扫描原理。

2.直写光源：双光路设计，可自动切换 365nm 和 405nm 双波长，满足不同光刻胶需求；光源功率 1.5W。

3.样品加工区：最大基片尺寸 230mm、厚度 15mm，最大加工区域 195mm×195mm；配备三维位移电机（XY 最小步长＜50nm），X/Y 轴行程≥200mm、Z 轴≥15mm；套刻精度≤0.5μm，有温控样品腔室。

4.显微镜系统：集成光学显微镜（×3/×5 等 5 种放大倍数自动切换），搭配数字成像放大（4 倍）；光学轮廓探测系统 Z 向分辨率≥100nm。

5.对准与配套功能：自动对准（精度＜500nm）及自动对焦，支持表面不平整样品 Z 向调节；配备自动标记识别、虚拟电子掩膜版对准功能及气浮减震台；支持多基片加工及不同分辨率模式组合加工。

主要功能及特色：