仪器名称：反应离子刻蚀系统   仪器型号：RIE-100R

产地：              浙江嘉兴         生产厂家：科民电子

购买日期：       2022.12          分类标签：器件加工

联系人：            于慧慧           联系电话：010-62334725

放置地点：     鼎新楼A座521

主要规格及技术指标：

1. 最大基片尺寸：直径100 mm(4-inch)；

2. 本底真空度：3.7×10-5 Torr;

3. 工艺气体种类：O2、Ar、SF6、CHF3；

主要功能及特色：

适用于4英寸及以下衬底（硅片、玻璃、蓝宝石）上的多层二维材料刻蚀、超薄介电层刻蚀以及衬底亲水处理